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MIYUKI美幸輝 真空閥 ABR-J25

價格
電議

型號
ABR-J25

品牌
MIYUKI美幸輝

所在地
四川省 成都市

更新時間
2025-08-07 14:43:36

瀏覽次數

    MIYUKI美幸輝 真空閥 ABR-J25

    真空閥(Vacuum Valve)是專門用于真空系統(tǒng)中控制氣體流動、調節(jié)壓力或隔離真空環(huán)境的閥門。由于真空系統(tǒng)對密封性、材料放氣率和耐壓差有嚴格要求,真空閥的設計與普通閥門有顯著區(qū)別。

    MIYUKI美幸輝 真空閥 ABR-J25

    MIYUKI美幸輝 真空閥 ABR-J25

    L 型閥

    AB/AE/ABR/AER 系列

    軸封方式(波紋管密封、O 形圈密封)可根據使用目的選擇。

    16A~50A 可用于單作用和雙作用。

    所有尺寸均與反壓兼容。

    真空閥(Vacuum Valve)是專門用于真空系統(tǒng)中控制氣體流動、調節(jié)壓力或隔離真空環(huán)境的閥門。由于真空系統(tǒng)對密封性、材料放氣率和耐壓差有嚴格要求,真空閥的設計與普通閥門有顯著區(qū)別。

    真空閥的優(yōu)點

    高密封性

    采用金屬密封或氟橡膠(FKM)等特殊材料,確保閥門在高真空(≤10?? Pa)環(huán)境下仍能保持極低泄漏率。

    部分高精度真空閥采用波紋管密封,避免閥桿處泄漏。

    低放氣率

    閥體和密封材料經過特殊處理(如電拋光、鍍鎳或烘烤除氣),減少材料在真空環(huán)境下的氣體釋放。

    耐壓差能力強

    可承受從大氣壓(10? Pa)到高真空(10?? Pa)的巨大壓差,確保閥門在開關過程中不發(fā)生變形或泄漏。

    真空閥的應用領域

    半導體與微電子制造

    用于晶圓加工、刻蝕、CVD(化學氣相沉積)和PVD(物理氣相沉積)設備,控制工藝腔體的真空度。

    真空鍍膜與光學涂層

    在磁控濺射、電子束蒸發(fā)等鍍膜設備中,真空閥用于隔離不同腔室,確保鍍膜均勻性。

    科研與實驗室設備

    粒子加速器、同步輻射裝置、質譜儀等高真空系統(tǒng)依賴高精度真空閥維持穩(wěn)定運行。

    航天與空間模擬

    用于衛(wèi)星、航天器地面測試,模擬太空真空環(huán)境,確保設備在極端條件下的可靠性。

    MIYUKI美幸輝 真空閥 ABR-J50
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